…、エポキシ、硬化物、発生器 特許公開件数は横ばい傾向です。 研究開発・転職・競合分析に活用可能日本化薬の特許件数推移・研究開発動向 2026-09-16時点で公開されている日本化薬の最新特許を一覧化しました。どの技術分野に注力しているのか、研究開発の方向性、新規材料・プロセス開発の傾向を確認する参考になります。 化学メーカーの転職研究、競合企業との技術比較、研究開発力の分析、業界研究にも活用できます。特に、高機能樹脂、ディスプレイ材料などの技術分野への注力状況が見えてきます。…

…積層体 #硬化物 #発生器 #エポキシ #ナノダイヤモンド #半導体材料 #光学 ダイセルの特許件数推移 過去10年間の公開特許件数推移を集計しました。近年は特許公開件数が減少傾向にあります。前年の特許公開件数は前年度比 25.5%減少となっています。なお、最新年は特許公開途中のため、増減分析から除外しています。特許件数は、研究開発投資や新規事業強化の参考指標になります。 ダイセルの最新特許一覧 以下は2026-08-15時点で公開されているダイセルの最新特許一覧です。エアバ…

…許30報です。●ガス発生器 https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2026-036805/11/ja●エポキシ樹脂、硬化性樹脂組成物、硬化物及び炭素繊維強化複合材料 https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2026-031364/11/ja●塩基発生剤、硬化性樹脂組成物、その硬化物及びプリント配線板 https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1…

…0/11/ja●ガス発生器 https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2025-047263/11/ja●硬化性高分子化合物、及び該化合物を含む樹脂組成物 https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2025-047222/11/ja●芳香環同士の架橋構造を有する化合物、該化合物を含有する組成物、ポリベンゾオキサゾール及び半導体素子 https://www.j-platpat.i…

…9/11/ja●ガス発生器及びガス発生器のガス排出方法 https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2025-005559/11/ja●酵素を用いたリン酸化エクオールの製造法 https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2025-001000/11/ja●積層体 https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-178102/11…

…1/11/ja●ガス発生器及びエアバッグモジュール組立体 https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-104609/11/ja●防眩フィルム https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-103820/11/ja●防眩フィルム https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-103819/11/ja●防眩フィル…

…5/11/ja●ガス発生器 https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-032390/11/ja●エポキシ樹脂、硬化性樹脂組成物、及びこれらの硬化物並びに炭素繊維強化複合材料 https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-032034/11/ja●ガス発生器 https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-03…

…8/11/ja●ガス発生器及びガス発生器の製造方法 https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1800/PU/JP-2024-004149/157D73DCC445E8DC13123EA06E1A9131035EDA7B26AE601C2730BB6E5B4ED098/11/ja●防眩フィルム並びにその製造方法及び用途 https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1800/PU/JP-2024-001168/FB3ED2C…