2026-02-27時点での東京応化工業の特許出願分野ランキング(10年分)です。
【1位】177件, 半導体装置作成のためのもの
【2位】83件, 化学増幅機構を有するポジ型レジスト
【3位】37件, 着色剤
【4位】36件, スルホニウム化合物
【5位】35件, ジベンゾチオフェン
【6位】27件, 露光エネルギーに特徴のあるもの
【7位】22件, 酸・塩基
【8位】17件, 炭素骨格に結合しているエステル化された水酸基を含有するもの
【9位】16件, 添加剤
【10位】15件, カラーストライプフィルター，カラーモザイクフィルター
【11位】15件, 化学増幅用酸発生剤
【12位】14件, 有機系
【13位】13件, 化学増幅機構を有するネガ型レジスト
【14位】12件, 増感剤を用いるもの
【15位】12件, アクリレート類
【16位】12件, その他
【17位】12件, 異種原子または異種原子含有基で置換されたもの
【18位】11件, ｏ―ヒドロキシカルボン酸
【19位】11件, ポリイミド；ポリアミド―イミド；ポリエステル―イミド；ポリアミド酸または類似のポリイアミド先駆物質
【20位】11件, ドライフィルム用
【21位】10件, 有機発光ダイオードまたはポリマー発光ダイオード
【22位】9件, 不飽和基を有するポリアミド，ポリイミド又はその前駆体
【23位】9件, 低分子シリコン化合物，例．シランカップリング剤
【24位】9件, エステル
【25位】8件, 多色発光に特に適した装置
【26位】8件, 一価のアルコールまたはフェノールのエステル
【27位】8件, 電子線
【28位】7件, 接着によるもの，例．保護膜
【29位】7件, 炭素―炭素不飽和結合のみが関与する反応によって得られる重合体の連鎖を少なくとも１個含有するブロック共重合体の組成物；そのような重合体の誘導体の組成物
【30位】7件, グループＧ０３Ｆ７／０２９に包含されない有機化合物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/より作成
