2024-02-19時点での東京応化工業の最新文献 30本(日本語)です。
●化学増幅型レジストにおける酸発生剤の分解機構と分解前後の分子構造の変化がレジスト溶解に与える影響の解明
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390578702994592000
●特集 化学物質の安全管理 リスク評価し低減策実施 : 薬傷・健康障害の予防徹底へ 使用する物質すべてを対象に : 東京応化工業
https://cir.nii.ac.jp/crid/1520856273818141952
●リガンド交換によるCuInS2/ZnS量子ドットのインクへの分散性の向上
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390010457708036864
●反射フォトニック結晶を用いた高効率・高出力殺菌用深紫外LED
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390291932684775808
●コア／シェル型CuInS2/ZnS量子ドットのリガンド交換とインクの調製
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390574290253848704
●各社の化学物質管理(第33回)東京応化工業における化学物質管理の取り組み
https://cir.nii.ac.jp/crid/1522825131008801792
●アジア・新興国特許調査における無料データベースの実力検証
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390564238099833216
●リン固相拡散ドーピングを導入したFinFETの寄生抵抗の評価
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390856384291807104
●PDSスピンコーティングによるFinFET向けダメージレスドーピング技術
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390856605462413440
●p型GaNコンタクト層に形成した高反射型フォトニック結晶によるAlGaN深紫外LEDの外部量子効率改善
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390856605462705152
●ウェットエッチングによるサファイア表面加工基板(PSS)を用いた深紫外LED用高品質AlNテンプレートの作製
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390296066524828288
●脱保護反応に起因した膜減り量評価による化学増幅系EUV用レジストの反応解析
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390296685878932608
●円筒形成形物の内側表面に成膜される銅薄膜のパターニング
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282680633985920
●715 静電誘引形スプレーを用いたTSV内レジスト成膜に関する研究
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282680842133632
●SR吸収分光法によるEUV用化学増幅系レジストの反応解析
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390015564794207360
●常温ナノインプリントを利用したLSPR基板の作製と評価
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390015897171415680
●EUV レジストの高感度化について
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390578847124275584
●高エッチング耐性ナノインプリント材料
https://cir.nii.ac.jp/crid/1570854176168238464
●自己組織化傾斜構造を用いたトップゲート型有機トランジスタの特性評価
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390297681111609344
●三次元半導体デバイスにおけるコンフォーマル成膜に関する研究
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390861074209895040
●3Dスタックデバイスの製造工程におけるTSV内レジスト成膜に関する研究
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001205655550208
●3Dスタックデバイスの製造工程におけるTSV内レジスト成膜に関する研究
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282680632259200
●OH基の異なるシロキサンポリマー絶縁膜によるTIPSペンタセン有機トランジスタの特性評価
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390580561433718656
●カラーフィルタ用ブラックレジストの高機能化技術
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282679115746560
●イオン照射型ＤＴＭにおける磁気特性解析
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282680262770432
●MEMS構造に対応した感光性樹脂上へのめっきの応用
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282680532031744
●フレキソ製版システムと版材
https://cir.nii.ac.jp/crid/1571417125667552640
●神奈川科学技術アカデミー、東京応化工業:酸化チタン光触媒技術で親水・疎水の印刷パターン形成。オフセット版に代わるアルミ・チタン刷版の実用化に道
https://cir.nii.ac.jp/crid/1523388079882519552
●フレキソ印刷システム
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001204088424576
●無機レジストを用いた電子ビームリソグラフィにおけるＰＥＢの効果と近接効果の評価
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001205652756608
