『日本ゼオン』特許出願分野ランキング (2024-06-21時点)

2024-06-21時点での日本ゼオンの特許出願分野ランキング(10年分)です。

【1位】425件, 電極

【2位】393件, レンズ以外の光学要素

【3位】354件, 無機物質の添加剤としての使用

【4位】330件, 本質的に合成樹脂からなる積層体

【5位】263件, 有機配合成分の使用

【6位】236件, 高分子物質を含む成形品の製造

【7位】218件, 二次電池;その製造

【8位】149件, 燃料電池以外の電気化学的電池,例.混成電池,の発電要素以外の部分の構造の細部またはその製造方法

【9位】144件, 層間の関係を特徴とする積層体;層間の特性の相対的な方向性,または層間の測定可能なパラメータの相対的な値を特徴とする積層体,すなわち層間で異なる物理的,化学的または物理化学的性質を有する積層体;層の相互結合を特徴とする積層体

【10位】135件, 炭素;その化合物

【11位】135件, ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体

【12位】130件, 高分子物質の処理方法または混合方法

【13位】123件, 共役ジエン炭化水素の単独重合体または共重合体の組成物

【14位】118件, 高分子の主鎖に炭素―炭素連結基を形成する反応により得られる高分子化合物

【15位】118件, グループH10K50/00に包含される,少なくとも1つの有機発光素子を備える,集積装置または複数の装置の組立体

【16位】117件, ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物,またはその塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体の組成物;そのような重合体の誘導体の組成物

【17位】116件, 不特定の高分子化合物の組成物

【18位】115件, 独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学

【19位】100件, 有機発光装置

【20位】96件, エレクトロルミネッセンス光源

【21位】92件, ただ1つの炭素-炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物,その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体

【22位】80件, カテーテル;中空探針

【23位】79件, -

【24位】75件, 後処理による化学的変性

【25位】73件, 主鎖に炭素―炭素結合を形成する反応によって得られる高分子化合物の組成物;そのような重合体の誘導体の組成物

【26位】66件, フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置

【27位】66件, 中間重合体を脱活性化することなくイオン触媒または配位触媒を用い,異なる単量体を連続して使用する重合によって得られる高分子化合物

【28位】63件, ハイブリッドコンデンサ,すなわち異なる正と負の電極をもつコンデンサ;電気二重層コンデンサ;その製造のプロセスまたはその部品製造のプロセス

【29位】60件, このサブクラスに包含される有機装置に特に適した製造または処理

【30位】57件, このサブクラスに包含されるが,グループH10K10/80,H10K30/80,H10K50/80またはH10K59/80に包含されない装置の構造的細部

https://www.j-platpat.inpit.go.jp/より作成