2024-06-26時点での日産化学の最新特許30報です。
●波長変換膜形成用組成物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-082753/11/ja
●インク組成物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-075578/11/ja
●ネガ型感光性樹脂組成物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-073626/11/ja
●多環芳香族含有ポリマーを含むレジスト下層膜形成用組成物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-073474/11/ja
●レジスト下層膜形成組成物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-073468/11/ja
●光照射剥離用接着剤組成物及び積層体並びに積層体の製造方法及び剥離方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-072835/11/ja
●液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-070838/11/ja
●特定の架橋剤を含む保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-069387/11/ja
●レジスト下層膜形成組成物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-069252/11/ja
●液晶配向剤、液晶配向膜及びそれを用いた液晶表示素子
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-063092/11/ja
●ピリジン骨格を含む重合体、並びに該重合体及び溶媒を含む絶縁膜形成組成物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-062954/11/ja
●半導体基板の洗浄方法、加工された半導体基板の製造方法、及び、剥離及び溶解用組成物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-061860/11/ja
●低屈折率膜を含む積層体及びその製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-061047/11/ja
●液晶配向剤、液晶配向膜及びそれを用いた液晶表示素子
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-059669/11/ja
●環式カルボニル化合物を用いたレジスト下層膜形成組成物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-059666/11/ja
●一本鎖オリゴヌクレオチド
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-056807/11/ja
●液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-050592/11/ja
●布類又は紙類汚染防止材料
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-042716/11/ja
●電荷輸送性薄膜
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-041937/11/ja
●フッ素系表面改質剤を含む硬化性組成物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-041281/11/ja
●特定の架橋剤を含む保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-040229/11/ja
●バンクパターンの形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-038456/11/ja
●液晶配向膜の製造方法、液晶配向膜、及び液晶表示素子
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-037943/11/ja
●化合物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-037908/11/ja
●液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子及び新規モノマー
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-037839/11/ja
●毛髪化粧料
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-034405/11/ja
●感光性樹脂組成物中の金属不純物を除去する金属除去フィルターを用いた金属除去方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-033021/11/ja
●液晶配向剤、液晶配向膜、及び液晶表示素子
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-031292/11/ja
●キャリアの摩耗が低減されたシリコンウエハーの研磨方法及びそれに用いる研磨液
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-028465/11/ja
●スフェア形成能及び遊走能を有する細胞の選別方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-027573/11/ja
