2024-11-20時点での信越化学工業の最新特許30報です。
●スチレン系エラストマー組成物、未硬化樹脂フィルム、硬化樹脂フィルム、接着フィルム、封止材及び基板
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-160719/11/ja
●オニウム塩、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-160436/11/ja
●炭化金属被覆炭素材料
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-160432/11/ja
●１７－メチルアルカン化合物の製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-160423/11/ja
●１－ハロ－２，６，１４－トリメチルオクタデカン化合物、並びにそれを用いた５，１３，１７－トリメチルアルカン化合物の製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-160422/11/ja
●生体電極、及び生体電極の製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-159544/11/ja
●ミラブル型フロロシリコーンゴム組成物及び輸送機のエンジン周辺用ゴム部品
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-159087/11/ja
●７８０－８２０ｎｍ波長帯域用光アイソレータ
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-157950/11/ja
●アミノアルコール変性シリコーンを含有する化粧料
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-157302/11/ja
●化学増幅ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-157135/11/ja
●ガス発生装置
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-156297/11/ja
●レジスト材料、レジスト組成物、パターン形成方法、及びモノマー
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-155758/11/ja
●ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-155753/11/ja
●白金－亜リン酸エステル錯体含有ヒドロシリル化触媒および該白金－亜リン酸エステル錯体含有ヒドロシリル化触媒の製造方法、並びに該触媒を含有する硬化性オルガノポリシロキサン組成物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-155216/11/ja
●希土類焼結磁石及びその製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-154865/11/ja
●多層フィルム
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-154817/11/ja
●有機膜形成用組成物、有機膜形成方法、及びパターン形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-154795/11/ja
●レジスト材料、レジスト組成物、及びパターン形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-154791/11/ja
●モノマー、レジスト材料、レジスト組成物、及びパターン形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-154790/11/ja
●熱分解窒化ホウ素含有基板、および半導体デバイスの絶縁基板
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-154710/11/ja
●低誘電性樹脂組成物およびその硬化物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-153747/11/ja
●フェノール部位を有する第四級ホスホニウムシランおよびその製造方法、並びにこれを用いた環状カーボネートの製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-152123/11/ja
●硬化性パーフルオロポリエーテルゲル組成物、パーフルオロポリエーテルゲル硬化物、および該硬化物で封止された電子部品
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-151871/11/ja
●熱伝導性シリコーン樹脂シートの製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-151828/11/ja
●分子レジスト組成物及びパターン形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-151731/11/ja
●ミラブル型シリコーンゴム組成物及びその硬化物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-151709/11/ja
●分離膜およびその製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-151464/11/ja
●オニウム塩、レジスト組成物、及びパターン形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-151446/11/ja
●ＥＵＶマスクブランクに形成された基準マークの評価方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-150994/11/ja
●ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付露光原版、露光方法及び半導体の製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-150755/11/ja
