2024-12-24時点での日産化学の最新特許30報です。
●インドール化合物の製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-177597/11/ja
●光照射剥離用接着剤組成物及び積層体並びに積層体の製造方法及び剥離方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-177489/11/ja
●有機溶媒の製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-169705/11/ja
●切断可能なＤＮＡコード化ライブラリ
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-167312/11/ja
●レジスト膜の下層膜形成用感光性樹脂組成物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-166251/11/ja
●レジスト膜の下層膜形成用感光性樹脂組成物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-166250/11/ja
●ポリイミドフィルム
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-165222/11/ja
●メルカプト基含有シリカ粒子を含む水性シリカゾル
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-7590701/15/ja
●片末端無置換ポリチオフェンの製造方法およびチオフェン化合物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-161885/11/ja
●導電性酸化第二スズ粒子を含む有機溶媒分散ゾル及びその製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-7586384/15/ja
●液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-161565/11/ja
●半導体基板用プライマーおよびパターン形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-161537/11/ja
●リソグラフィー用塗布膜形成組成物の製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-161521/11/ja
●二次電池材料の製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-161153/11/ja
●生体物質付着抑制能を有する限外ろ過膜
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-160625/11/ja
●非感光性絶縁膜形成組成物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-160416/11/ja
●レジスト下層膜形成組成物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-156847/11/ja
●遷移金属ドープシリカゾル及びその製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-7572662/15/ja
●表面処理シリカ含有無機酸化物粒子分散液及びその製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-149753/11/ja
●垂直配向用の液晶配向剤、液晶配向膜、及び液晶表示素子
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-149643/11/ja
●感光性樹脂組成物の光硬化物からなる膜付きプラスチック基材及びその製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-146913/11/ja
●細胞構造体製造用容器、細胞構造体製造用容器の製造方法、細胞構造体の製造方法、及び細胞構造体製造用容器に用いられる基材
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-139785/11/ja
●剥離剤組成物、積層体、及び加工された半導体基板又は電子デバイス層の製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-135070/11/ja
●感光性樹脂組成物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-132434/11/ja
●防食組成物、金属材料の腐食抑制方法及び鉄筋コンクリート構造物の補修方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-131966/11/ja
●情報処理システム、情報処理方法及びプログラム
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-128823/11/ja
●塩類が除去されたポリシロキサンの製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-127962/11/ja
●液晶配向剤、液晶配向膜、及び液晶表示素子
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-126027/11/ja
●器官芽の保存方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-122632/11/ja
●チエノウラシル化合物及び有害生物防除剤
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-120189/11/ja
