photoresistは近年、海外論文でも研究が行われている技術テーマです。特に高分子・半導体・コーティング分野で関連論文が確認されています。 本記事では、OpenAlex APIを用いて、photoresistの論文数推移、被引用数の多い代表論文、研究トレンドを整理しました。 過去10年間での研究動向や、現在どの程度注目されているテーマなのかを俯瞰的に確認できます。2025年の論文数は238件で、photoresistは継続的に研究されている分野です。photoresist…

…の効率的なエクソソーム単離と4℃保存エクソソームの安定化光第二高調波発生を用いた液晶配向膜における表面配向特性の解析Metal Oxide Photoresists Development for EUV Lithography潜熱蓄熱材CALGRIPバイオ燃料低透過性エラストマーFUELOCKDevelopment of New Photosensitive Low CTE Materials 関連記事 ▶JSRの関連記事一覧 ▶ 化学メーカー比較記事 ▶ 研究開発関連記事

…oparticle photoresist studies for EUV lithography（39件 / 2017年）第5位 Elucidating the patterning mechanism of zirconium-based hybrid photoresists（38件 / 2017年）第6位 Cerebral oxygenation in neonatal and pediatric patients during veno-arterial extra…

…：6.72）第3位：photoresists（スコア：5.38）第4位：immersion（スコア：4.58）第5位：patients（スコア：4.42）第6位：design（スコア：4.39）第7位：resists（スコア：4.14）第8位：euv resist（スコア：4.12）第9位：metal（スコア：3.65）第10位：immersion lithography（スコア：3.2）第11位：half（スコア：3.03）第12位：half pitch（スコア：3.03）…

… 第15位 New Photoresist Based on Amorphous Low Molecular Weight Polyphenols 被引用数：62件 発表年：2004年 論文リンク https://doi.org/10.2494/photopolymer.17.435 第16位 Geotechnical Aspects of Damage in Adapazari City During 1999 Kocaeli, Turkey Earthquake 被引用数…

…oparticle photoresist studies for EUV lithography 被引用数：36件 発表年：2017年 論文リンク https://doi.org/10.1117/12.2258187 第6位 Acute severe asthma: Outcome and Medicaid insurance 被引用数：35件 発表年：2002年 論文リンク https://doi.org/10.1097/00130478-200207000-00005 …

…sion type photoresists for EUV lithography (10件, 2020年) https://doi.org/10.1117/12.2572582第13位 Dielectric elastomer using CNT as an electrode (10件, 2020年) https://doi.org/10.1117/12.2548512第14位 Material design for the improvement of ZEP520A…

…f colored photoresist through an i-line stepper. Light, science & applications,2025 Jan 16 https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/39814706●[Frontline in Biliary Excretion of Drugs and Their Evaluation Systems]. Yakugaku zasshi : Journal of the Pha…

…f colored photoresist through an i-line stepper. Light, science & applications,2025 Jan 16 https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/39814706●ADAPT-QSCI: Adaptive Construction of an Input State for Quantum-Selected Configuration Interaction. Journal …

…f colored photoresist through an i-line stepper. Light, science & applications,2025 Jan 16 https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/39814706●ADAPT-QSCI: Adaptive Construction of an Input State for Quantum-Selected Configuration Interaction. Journal …