『信越化学工業』特許出願分野ランキング (2024-03-09時点)

2024-03-09時点での信越化学工業の特許出願分野ランキング(10年分)です。

【1位】953件, 主鎖のみにいおう,窒素,酸素または炭素を含みまたは含まずにけい素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物の組成物;そのような重合体の誘導体の組成物

【2位】625件, 無機物質の添加剤としての使用

【3位】619件, フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置

【4位】589件, 半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に適用される方法または装置

【5位】567件, 有機配合成分の使用

【6位】396件, 高分子の主鎖にいおう,窒素,酸素または炭素を有しまたは有せずにけい素を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物

【7位】304件, 半導体または他の固体装置の細部

【8位】293件, 物質であって,他に分類されないもの

【9位】292件, 周期表の第4族または第14族の元素を含有する化合物

【10位】231件, 主鎖のみに,いおう,窒素,酸素または炭素を含みまたは含まずにけい素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物に基づくコーティング組成物;そのような重合体の誘導体に基づくコーティング組成物

【11位】226件, 主鎖のみに,いおう,窒素,酸素または炭素を含みまたは含まずにけい素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物に基づく接着剤;そのような重合体の誘導体に基づく接着剤

【12位】214件, フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿,例.マスク,フォトマスク又はレチクル;そのためのマスクブランク又はペリクル;特にそれに適合した容器;その準備

【13位】207件, グループC09J9/00に分類されない接着剤の特徴,例.添加剤

【14位】189件, ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体

【15位】187件, 1分子中に1個より多くのエポキシ基を含有する重縮合物;エポキシ重縮合物と単官能性低分子量化合物との反応によって得られる高分子化合物;エポキシ基と反応する硬化剤または触媒を用いて1分子中に1個より多くのエポキシ基を含有する化合物を重合することにより得られる高分子化合物

【16位】186件, けい素;その化合物

【17位】186件, グループC09D5/00に分類されない塗料組成物の特色;塗料組成物に成分を混合するためのプロセス

【18位】170件, 本質的に合成樹脂からなる積層体

【19位】164件, 光の放出に特に適用される少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有する半導体装置;それらの装置またはその部品の製造,あるいは処理に特に適用される方法または装置;それらの装置の細部

【20位】160件, 電極

【21位】129件, 赤外線,可視光,短波長の電磁波,または粒子線輻射に感応する半導体装置で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御かのどちらかに特に適用されるもの;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの細部

【22位】117件, ただ1つの炭素-炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物,その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体

【23位】110件, 材料または形状によって特徴づけられた単結晶または特定構造を有する均質多結晶物質

【24位】100件, 化粧品あるいは類似化粧品製剤

【25位】91件, フィルム状または箔状の接着剤

【26位】88件, 不特定の高分子化合物の組成物

【27位】81件, 高分子物質を含む成形品の製造

【28位】80件, ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着法

【29位】77件, エポキシ樹脂の組成物;エポキシ樹脂の誘導体の組成物

【30位】69件, 他の一般的方法

https://www.j-platpat.inpit.go.jp/より作成