2024-05-06時点での信越化学工業の最新特許30報です。
●シリコーンゴム溶解剤及びシリコーンの回収方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-060521/11/ja
●化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-060315/11/ja
●硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び半導体装置
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-060273/11/ja
●熱放射性複合フィルム
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-060263/11/ja
●仮接着剤の使用方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-059775/11/ja
●シロキサン変性ポリウレタン樹脂コーティング剤組成物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-059565/11/ja
●オニウム塩、レジスト組成物、及びパターン形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-059418/11/ja
●オキサジシラシクロペンタン化合物の製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-059323/11/ja
●オキサジシラシクロペンタン化合物の製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-059311/11/ja
●エポキシ樹脂組成物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-059283/11/ja
●ポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-059083/11/ja
●ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-059081/11/ja
●オニウム塩、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-058075/11/ja
●オニウム塩、レジスト組成物、及びパターン形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-057515/11/ja
●レジスト材料及びパターン形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-055780/11/ja
●レジスト材料及びパターン形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-055779/11/ja
●レジスト材料及びパターン形成方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-055778/11/ja
●液状付加硬化型フルオロシリコーン組成物、フルオロシリコーンゴム及び成形品
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-055614/11/ja
●樹脂組成物、成形品及び樹脂組成物を生産する方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-055490/11/ja
●室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-055241/11/ja
●感光性樹脂組成物、感光性樹脂皮膜、パターン形成方法及び発光素子
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-054521/11/ja
●感光性樹脂組成物、感光性樹脂皮膜、感光性ドライフィルム、パターン形成方法及び発光素子
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-054518/11/ja
●感光性樹脂組成物、感光性樹脂皮膜、感光性ドライフィルム、パターン形成方法、及び発光素子
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-054515/11/ja
●量子ドット含有組成物とその製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-054513/11/ja
●ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付露光原版、露光方法及び半導体の製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-054261/11/ja
●Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ工程用ガスバリアコーティング剤
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-054008/11/ja
●熱伝導性シリコーン組成物、熱伝導性シリコーン硬化物及び電気部品
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-051534/11/ja
●３－イソプロペニル－６－ヘプテナール化合物及び６－イソプロペニル－３－メチル－３，９－デカジエニル＝カルボキシレート化合物の製造方法並びにその中間体
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-050787/11/ja
●導電性高分子組成物、基板、及び基板の製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-050695/11/ja
●個体認証用構造体及びその製造方法
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/c1801/PU/JP-2024-050622/11/ja
