2023-12-30時点での日本化薬の特許出願分野ランキング(10年分)です。
【1位】450件, インキ
【2位】442件, 複製またはマーキング方法；それに使用するシート材料
【3位】367件, 設計されるプリンティングまたはマーキング方法に特徴があるタイプライタまたは選択的プリンティング機構
【4位】325件, 化学反応によらない，例えば，溶剤による処理などによって染料の染色性や捺染性などの物性に影響を及ぼすもの；染料製造における工程的特徴；特別の物理的性状，例えば，錠剤状，フィルム状を有する染料の製造
【5位】279件, レンズ以外の光学要素
【6位】271件, １分子中に１個より多くのエポキシ基を含有する重縮合物；エポキシ重縮合物と単官能性低分子量化合物との反応によって得られる高分子化合物；エポキシ基と反応する硬化剤または触媒を用いて１分子中に１個より多くのエポキシ基を含有する化合物を重合することにより得られる高分子化合物
【7位】230件, 独立の光源から到達する光の強度，色，位相，偏光または方向の制御のための装置または配置，例．スィッチング，ゲーテイングまたは変調；非線形光学
【8位】145件, 事故又は他の交通危機の場合乗員又は歩行者を負傷から保護又は防止するための車両の装置又は部品
【9位】97件, 物質であって，他に分類されないもの
【10位】91件, 他のアゾ化合物からのアゾ染料の製造
【11位】89件, 繊維製品の染色または捺染または皮革，毛皮または種々の形態の固体状高分子物質の染色における他の特徴
【12位】86件, 有機活性成分を含有する医薬品製剤
【13位】81件, 脂肪族不飽和の末端基または側基の導入により変性された重合体に，単量体を重合させて得られる高分子化合物
【14位】80件, フォトメカニカル法，例．フォトリソグラフ法，による凹凸化又はパターン化された表面，例．印刷表面，の製造；そのための材料，例．フォトレジストからなるもの；そのため特に適合した装置
【15位】73件, このサブクラスで包含する装置の本体または電極に用いられる有機材料
【16位】72件, 他の一般的方法
【17位】65件, エポキシ樹脂の組成物；エポキシ樹脂の誘導体の組成物
【18位】64件, 有機配合成分の使用
【19位】63件, エレクトロルミネッセンス光源
【20位】63件, グループＨ１０Ｋ５０／００に包含される，少なくとも１つの有機発光素子を備える，集積装置または複数の装置の組立体
【21位】63件, 有機発光装置
【22位】62件, 抗腫瘍剤
【23位】61件, 重合方法
【24位】59件, グループＢ０１Ｊ２１／００に分類されない，金属または金属酸化物または水酸化物からなる触媒
【25位】59件, ガス発生装置
【26位】54件, 赤外線，可視光，短波長の電磁波，または粒子線輻射に感応する半導体装置で，これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御かのどちらかに特に適用されるもの；それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置；それらの細部
【27位】53件, 構成された目的に特徴があるタイプライターまたは選択的プリンティングまたはマーキング機構
【28位】51件, グループＣ０９Ｊ９／００に分類されない接着剤の特徴，例．添加剤
【29位】51件, 使用する不活性成分，例．担体または不活性添加剤，に特徴のある医薬品製剤；活性成分と化学結合した標的剤または修飾剤
【30位】50件, パラシュート
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/より作成
