2024-03-29時点での旭化成の特許出願分野ランキング(10年分)です。
【1位】509件, 有機配合成分の使用
【2位】497件, 無機物質の添加剤としての使用
【3位】392件, 高分子物質を含む成形品の製造
【4位】366件, 本質的に合成樹脂からなる積層体
【5位】352件, 二次電池；その製造
【6位】337件, ハイブリッドコンデンサ，すなわち異なる正と負の電極をもつコンデンサ；電気二重層コンデンサ；その製造のプロセスまたはその部品製造のプロセス
【7位】323件, フォトメカニカル法，例．フォトリソグラフ法，による凹凸化又はパターン化された表面，例．印刷表面，の製造；そのための材料，例．フォトレジストからなるもの；そのため特に適合した装置
【8位】319件, 電極
【9位】291件, 燃料電池以外の電気化学的電池，例．混成電池，の発電要素以外の部分の構造の細部またはその製造方法
【10位】254件, 主鎖にカルボン酸アミド結合を形成する反応により得られるポリアミドの組成物；そのような重合体の誘導体の組成物
【11位】250件, 主鎖にエーテル結合を形成する反応によって得られるポリエーテルの組成物；そのような重合体の誘導体の組成物
【12位】240件, イソシアネートまたはイソチオシアネートの重合生成物
【13位】227件, 多孔性または海綿状の物品または物質にするための高分子物質の処理；その後処理
【14位】223件, 半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に適用される方法または装置
【15位】219件, ただ１個の炭素―炭素二重結合を有する不飽和脂肪族炭化水素の単独重合体または共重合体の組成物；そのような重合体の誘導体の組成物
【16位】199件, 建築構造一般；壁，例．間仕切り，床，天井，屋根のいずれにも限定されない構造
【17位】195件, 高分子物質の処理方法または混合方法
【18位】179件, 不特定の高分子化合物の組成物
【19位】179件, 光の放出に特に適用される電位障壁を有する半導体装置；それらの装置またはその部品の製造，あるいは処理に特に適用される方法または装置；それらの装置の細部
【20位】174件, 医学用の吸引またはポンプ装置；体液を除去，処理，または導入する装置；排液システム
【21位】163件, ポリ尿素またはポリウレタンに基づくコーティング組成物；このような重合体の誘導体に基づくコーティング組成物
【22位】141件, 層の不均質または物理的な構造を特徴とする積層体
【23位】136件, 炭素―炭素不飽和結合のみが関与する反応によって得られる重合体の連鎖を少なくとも１個含有するブロック共重合体の組成物；そのような重合体の誘導体の組成物
【24位】126件, グループＣ０８Ｇ１２／００～Ｃ０８Ｇ７１／００に属さない，高分子の主鎖に酸素または炭素を有しまたは有せずに窒素を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
【25位】111件, グループＣ０９Ｄ５／００に分類されない塗料組成物の特色；塗料組成物に成分を混合するためのプロセス
【26位】107件, 他の一般的方法
【27位】93件, 赤外線，可視光，短波長の電磁波，または粒子線輻射に感応する半導体装置で，これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御かのどちらかに特に適用されるもの；それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置；それらの細部
【28位】90件, ポリアセタールの組成物；ポリアセタールの誘導体の組成物
【29位】87件, 磁気的変量を測定する計器または装置
【30位】85件, 材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜；そのために特に適合した製造工程
https://www.j-platpat.inpit.go.jp/より作成
